반도체 제조공정에서 생기는 유해 Gas를 무해하게 처리하여 배출하는 장치로서 고온산화 및 산화 촉매에 의한 가연성 유해 가스를 산화처리 하는 장치.
Heating System에서 미처리된 불소 및 염소계열 가스의 습식처리, 배기 되는 수분의 포 집 및 Demister Cleaning, Powder 및 폐수처리와 N2 Bubble를 이용하여 침전방지.
Burn+Wet 형식으로 전 공정 적용되며, By-Product의 완벽한 제거 가능